Исследования методами HR XRD и TEM процесса формирования дефектов в гетероэпитаксиальных структурах различного типа
Эксперт: Фалеев Николай Николаевич, к.ф.-.м.н., с.н.с. лаб. Диагностики материалов и структур твердотельной электроники Физико-технического института им. А.Ф. Иоффе РАН